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镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响：

真空度：真空度是指处于真空状态下气体的稀薄程度，用压强表示，压强越低，其稀薄程度越大，真空度越高。镀膜过程中，真空度主要通过控制ya气流量来改变。

ya气越少，靶材溅射量越少，但真空度越高，气体分子自由程越大，散射越少，粒子碰撞几率越小，粒子迁移过程中损失的动量越少，沉积速率越大

镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响：

靶基距：靶基距是影响成膜速率的重要因素之一，随着靶基距增加，被溅射材料射向基片时与气体分子碰撞的次数增多，轿车灯杯价格，同时等离子体密度也减弱，动能减少，沉积速率降低，但膜层外观较好。靶基距太小，轿车灯杯生产厂家，沉积太快，工件温升大，膜层外观差

辉光清洗：对工件施加负偏压，产生辉光放电，利用ya离子轰击工件表面，广州轿车灯杯，这种辉光放电清洗作用比较柔和，一般采取由弱到强的轰击清洗顺序，是怕工件太脏时一开始就强轰击，可能产生强烈的打火而损伤工件。

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